在科技的浪潮中，中国半导体产业正经历一场前所未有的技术革新。光刻机，作为推动芯片制造核心进步的关键，其技术的每一小步，都是国产芯片梦想的一大步。

从光源的突破到数值孔径的革新，我们见证了中国在这一领域的坚实足迹和不懈追求。

太侠今天分享的是《国产路漫其修远，中国芯上下求索》，来源：华金证券。

报告概要：

随着全球半导体产业的快速发展，光刻机技术成为了制约中国半导体产业发展的关键瓶颈。本报告深入分析了光刻机产业的多个方面：从光源的波长、数值孔径的优化，到工艺系数的计算和双工作台系统的精密配合，展示了光刻机技术如何四轮驱动产业升级。

同时，报告指出，尽管当前市场呈现一超两强的稳定格局，中国新建晶圆厂和产线的扩产，正不断拉动光刻机的需求增长。通过技术积累和产业链的深耕，国内企业已经在某些环节实现突破，开始填补国内技术空白，展现出国产光刻机技术发展的新希望。

报告目录：

• 光刻：集成电路制造核心环节

• 技术：光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动，共促光刻产业升级

• 市场：一超两强格局稳定，新建晶圆厂+产线扩产拉动需求

• 破局：师夷长技以制夷，星星之火可燎原

• 相关标的

• 风险提示

报告部分内容节选如下：

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